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      等離子去膠機適用于硅基半導體及化合物半導體前后道的等離子體去膠設備,可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理,設計緊湊占地面積小,設備穩定可靠、易于維護、產能高。等離子去膠機使用的影響因素:(1)調整合適的頻率:頻率越高,氧氣越容易電離形成等離子體。如果頻率太高,使得電子的振幅比其平均自由程短,則電子與氣體分子碰撞的概率會......
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      聚對二甲苯涂層系統是通過化學氣相沉積法制備的具有聚二甲撐苯撐結構的聚合物薄膜的統稱,它有極其優良的電性能、耐熱性、耐候性和化學穩定性。它是采用真空熱解氣相堆積工藝制備,可制成極薄的薄膜,主要用作薄膜和涂層,用于電子元器件的電絕緣介質、保護性涂料和包封材料等。聚對二甲苯涂層系統的特點:1、合規:即也適用于復雜的基材輪廓,......
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